Analyse par diffraction des rayons X, de l’évolution des contraintes résiduelles associée à la gravure de lignes dans un dépôt mince de tungstène CVD sur substrat de Si.
, , , and
Rev. Met. Paris, 90 9 (1993) 1109
Published online: 24 January 2017
DOI: 10.1051/metal/199390091109